
光學(xué)鍍膜工藝流程
光學(xué)鍍膜工藝流程是一個復(fù)雜而精細(xì)的過程,旨在通過在光學(xué)零件表面鍍上一層或多層金屬(或介質(zhì))薄膜,以改變其光學(xué)性能。以下是光學(xué)鍍膜工藝流程的詳細(xì)步驟:
一、前期準(zhǔn)備
材料準(zhǔn)備:選用高質(zhì)量的光學(xué)鏡片作為基材,確保鏡片表面平整、無缺陷。
設(shè)備準(zhǔn)備:準(zhǔn)備真空鍍膜機及相關(guān)設(shè)備,如真空泵、蒸發(fā)源、濺射源、膜厚監(jiān)控儀等。
環(huán)境準(zhǔn)備:確保鍍膜室內(nèi)清潔無塵,避免污染鏡片表面。
二、鏡片處理
打磨:對光學(xué)鏡片進行精細(xì)打磨,去除表面微小凹陷和雜質(zhì),提高表面光潔度。
清洗:使用特殊的清洗液和超聲波清洗設(shè)備對鏡片進行清洗,去除油污、手印、灰塵等污染物。清洗過程通常包括有機溶劑清洗、水基清洗劑清洗、純水漂洗和IPA脫水等步驟。
三、鍍膜過程
真空加熱:將鏡片放入真空室內(nèi),通過通電加熱的方式使鏡片表面吸附的氣體蒸發(fā)并被泵走,形成高真空環(huán)境。
金屬膜沉積:根據(jù)鍍膜需求,選擇合適的膜料(如金屬、合金、氧化物等),并通過蒸發(fā)或濺射的方式將其沉積在鏡片表面。蒸發(fā)過程通常涉及加熱蒸發(fā)源,使膜料蒸發(fā)成氣態(tài)分子;濺射過程則利用高能粒子轟擊靶材,使靶材原子或分子被濺射出來。
膜厚監(jiān)控:使用膜厚監(jiān)控儀對鍍膜過程進行實時監(jiān)控,確保薄膜的厚度和均勻性滿足要求。根據(jù)需要,可以調(diào)整蒸發(fā)源或濺射源的參數(shù),以優(yōu)化鍍膜效果。
四、后期處理
冷卻:鍍膜完成后,關(guān)閉蒸發(fā)源或濺射源,讓真空室內(nèi)自然冷卻至室溫。然后將鏡片從真空室中取出,放置于恒溫房中進一步冷卻至室溫。
檢測與測試:對鍍膜后的鏡片進行光學(xué)性能測試,如反射率、透過率、激光損傷閾值等,確保鍍膜質(zhì)量符合設(shè)計要求。
五、特殊鍍膜技術(shù)
在光學(xué)鍍膜工藝流程中,還有一些特殊的鍍膜技術(shù),如離子輔助沉積(IAD)、磁控濺射等。這些技術(shù)能夠進一步提高鍍膜的質(zhì)量和性能,如提高薄膜的致密度、附著力、光學(xué)性能等。
綜上所述,光學(xué)鍍膜工藝流程是一個精細(xì)而復(fù)雜的過程,需要嚴(yán)格控制各個環(huán)節(jié)的參數(shù)和條件,以確保鍍膜質(zhì)量和性能的穩(wěn)定性和可靠性。
——本文由光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家振華真空發(fā)布