真空離子鍍膜機(簡稱離子鍍)是1963年美國的 Somdia 公司的 D.M.Mattox所提出20 世紀(jì) 70年代得到快速發(fā)展的一種全新的表面處理技術(shù)。它是指在真空氣氛中利用蒸發(fā)源或濺射靶使膜材蒸發(fā)或濺射，蒸發(fā)或濺射出來的一部分粒子在氣體放電空間中電離成金屬離子，這些粒子在電場的作用下沉積到基體上生成薄膜的一種過程。

    目前，真空離子鍍膜的種類很多，通常根據(jù)膜材產(chǎn)生的離子來源將其分為兩種類型：蒸發(fā)源型離子鍍和濺射靶型離子鍍。前者是通過膜材加熱蒸發(fā)而產(chǎn)生金屬蒸氣，使其在氣體放電等離子的空間中部分電離成金屬蒸氣和高能中性原子，通過電場的作用到達基體上生成薄膜；后者則是利用高能離子(如Ar+)對膜材表面進行轟擊使其濺射出來的粒子通過氣體放電的空間電離成離子或高能中性原子，達到基體表面上而生成薄膜。