1.電子元件用薄膜    例如，Ta、Ta2N、Ta-Al-N、Ta-Si、Cr-SiO、NiCr、Sn、Sb金屬膜電阻，SiO、SiO2、Al2O3;、Ta2O5;、TiO2、Al、Zn電容以及 Cr、Cu (Au)、Pb-Sn、PbIn、Au、Pt、A1、Au+Pb+In、Pb+Au+Pb、Al+Cu、ZnO、CdS電極等。

    2.攝像管中的 SbS2、CdSe、Se-As-Te、ZnSe、PbO、光電導(dǎo)面;SnO2、In2O3; 透明電導(dǎo)膜。

    3.半導(dǎo)體元件和半導(dǎo)體集成電路用薄膜    成膜材料有 Ni、Ag、Au-Ge、Ti-Ag-AuAl、AL-Si、AI-Si-Cu、Mo、MoSi、WSi、TiPt-Au、W-Au、MoAu、Cr-Cu-Au半導(dǎo)體膜;SiO2、Al2O3、Si3N4，絕緣膜。

    4.電發(fā)光元件中的In2O3;+SnO3，透明光導(dǎo)膜，ZnS、ZnS+ ZnSe、ZnS+CdS熒光體和Al電極，Y2O3;SiO2、Si3N4.、Al2O3,絕緣膜。

    5.傳感器件的PbO+In2O3、Pb、NbN、V3Si約夫遜結(jié)合膜，F(xiàn)e-Ni磁泡用膜以及電傳感用 Se、Te、CdS、ZnS傳感器膜。

    6.制作太陽能板的光電池、透明導(dǎo)電膜、電極以及防反射膜。

    7.液晶顯示、等離子體顯示和電致發(fā)光顯示等三大類平板顯示器件的透明導(dǎo)電膜，如ITO(氧化銅錫)膜及電致發(fā)光屏上多層功能膜，例如YOTa,0等介質(zhì)膜、ZnSiMn發(fā)光膜以及鋁電極膜等組成的全固態(tài)平板顯示器等。

    8.采用ZnO、Ta等薄膜制成的聲表面波濾波器等

    9.磁記錄與磁頭薄膜 例如，高質(zhì)量錄音和錄像用的磁性材料薄膜、錄音帶和錄像帶計算機數(shù)據(jù)信息存儲軟盤、硬盤用CoCrTa、CoCrNi薄膜、垂直記錄中的 FeSiAl薄膜、磁帶等。

    10.靜電復(fù)印鼓用的Se-Te、SeTeAs合金膜及非晶硅薄膜等。

——本文由磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家廣東振華發(fā)布