鍍制紫外高反射膜比鍍制可見(jiàn)光區(qū)和紅外區(qū)的高反射膜要困難得多。Madden曾對(duì)有關(guān)技術(shù)進(jìn)行過(guò)很詳細(xì)的評(píng)論，后來(lái)Hass 和Hunter對(duì)很多細(xì)節(jié)進(jìn)行了補(bǔ)充，因此下面的敘述只是簡(jiǎn)略總結(jié)。

    鋁是已知最適于鍍制紫外(到 100nm 左右)反射膜的材料。為得到最好的結(jié)果，鋁膜應(yīng)以很高的速率--如果可能，應(yīng)是40nm/s或更高--蒸鍍?cè)诶浠咨?，基底的溫度不?yīng)當(dāng)超過(guò)50℃，同時(shí)壓強(qiáng)為 10-Tor(1.33 x10-Pa)或更低。鋁必須是最純的。Hass和Tousey引用的結(jié)果指出，如果用純度為 99.99%的鋁，那么鋁膜的紫外反射率比用純度為99.5%的鋁有很大改進(jìn)(在波長(zhǎng) 150nm 處高出10%)。實(shí)際上得到的鋁膜的反射率比理論值要低得多，在短波端尤其如此，這是由于表面形成的薄氧化層降低了反射率的緣故，即使氧氣分壓強(qiáng)低于10-Tor(1.33x10-Pa)的量級(jí)，這種氧化作用也會(huì)發(fā)生。因此，未經(jīng)保護(hù)的鋁膜暴露于大氣中，將不可避免地出現(xiàn)反射率隨時(shí)間迅速下降的情況。當(dāng)氧化層的厚度足以阻止鋁膜被進(jìn)一步氧化時(shí)，鋁膜的反射率才穩(wěn)定下來(lái)，但是這種情況只能在短波區(qū)的反射率已經(jīng)大大降低后才能發(fā)生。

    人們努力尋找防止鋁膜氧化的保護(hù)材料。用氟化鎂 MgF，(膜層很牢固)和氟化鋰 LiF(膜層強(qiáng)度較差)做保護(hù)材料，得到了很有希望的結(jié)果(氟化鋰品體是很有用的紫外窗口材料)。反射率的增加除了干涉作用的影響外，部分是由于沒(méi)有氧化所致。

    鍍鋁膜后必須立即蒸鍍保護(hù)層，以便盡量減少氧化作用發(fā)生。為此，通常同時(shí)采用兩個(gè)蒸發(fā)源，并在鋁膜蒸鍍完畢時(shí)，以擋板遮住鋁源，然后同時(shí)打開(kāi)氟化鎂或氟化鋰蒸發(fā)源。在鋁上加鍍氟化鎂保護(hù)層作為紫外反射膜，現(xiàn)已成為標(biāo)準(zhǔn)工藝。

    Canfeld等曾詳細(xì)地研究了鋁膜和氟化鎂膜組成的膜系，研究結(jié)果表明，如果氟化鎂膜的厚度大于10nm，這種膜系可承受紫外輻射和電子(每平方厘米1016個(gè)能量為1MeV的電子)以及質(zhì)子(每平方厘米 1012個(gè)能量為5MeV 的質(zhì)子)的轟擊而不被破壞。

——本文由光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家振華真空發(fā)布