物理氣相沉積（physical vapor deposition, pvd）技術(shù)，是一種在真空條件下利用物理過程將材料源轉(zhuǎn)變成原子、分子或等離子體并最終沉積到基體表面上的方法。該技術(shù)所鍍制的涂層光滑致密且與基體結(jié)合良好，所采用的工作溫度較低因而基體材料適用范圍極廣，所產(chǎn)生的環(huán)境排放無污染故而屬于綠色環(huán)保加工技術(shù)。特別是采用該技術(shù)所鍍制的減摩耐磨涂層，不僅具有低摩擦和低磨損的特點(diǎn)，更是具有高硬度、強(qiáng)結(jié)合、耐腐蝕等優(yōu)點(diǎn)，已廣泛應(yīng)用于航空航天、海洋工程、機(jī)械制造以及汽車零部件等行業(yè)。

  然而絕大多數(shù)pvd耐磨涂層的可鍍厚度均小于10微米，采用特殊梯度界面設(shè)計(jì)的pvd耐磨涂層可鍍厚度也難以超過50微米，極大地限制了其在重載、長(zhǎng)壽命、高可靠性零部件表面的應(yīng)用。中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所王永欣博士等人通過對(duì)真空反應(yīng)腔室內(nèi)等離子體能量及狀態(tài)的設(shè)計(jì)與調(diào)控，有效降低了pvd耐磨涂層成膜過程中受轟擊作用所產(chǎn)生的內(nèi)部應(yīng)力積聚和表面反濺射損失，成功使crn等典型pvd耐磨涂層的單層可鍍厚度達(dá)到100微米，這預(yù)示著采用梯度層、交替層或多元復(fù)合等結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方法有望實(shí)現(xiàn)pvd耐磨涂層更大厚度的制備，使pvd耐磨涂層的可鍍厚度邁入百微米/亞毫米級(jí)時(shí)代，極大地提高了pvd耐磨涂層的承載能力和使用壽命，同時(shí)也為閥門、葉片等復(fù)雜工況下高可靠性零部件的表面防護(hù)開辟了新的途徑。