1、實(shí)際操作易控。 表層的鍍膜全過(guò)程，只需維持工作中氣體壓強(qiáng) 額定功率等磁控濺射標(biāo)準(zhǔn)比較平穩(wěn) 就能得到相對(duì)穩(wěn)定的沉淀速度。

2、沉積速率高。在沉積絕大多數(shù)的合金塑料薄膜，尤其是沉積高溶點(diǎn)的金屬材料和金屬氫化物塑料薄膜時(shí)，如磁控濺射鎢、鋁塑料薄膜和反應(yīng)濺射TiO2、ZrO2塑料薄膜，具備很高的沉積率。

3、膜的堅(jiān)固性好。磁控測(cè)射塑料薄膜與基鋼板擁有非常好的粘合力，沖擊韌性也獲得了改進(jìn)

4、涂膜高密度、勻稱。磁控濺射的塑料薄膜集聚相對(duì)密度普遍提高了。從顯微照片看，磁控濺射的溥膜表層外部經(jīng)濟(jì)外貌較為精美細(xì)膩，并且十分勻稱。

5、磁控測(cè)射鍍膜機(jī)的塑料薄膜均具備良好的特性。如磁控測(cè)射的陶瓷膜一般 能獲取較好的光電特性，電力學(xué)特性及一些獨(dú)特特性.

6、便于機(jī)構(gòu)批量生產(chǎn)。磁控源能夠按照需要開展擴(kuò)張，因而大規(guī)模表層的鍍膜是很容易完成的。

7、加工工藝環(huán)境保護(hù)。傳統(tǒng)式的濕式電鍍工藝會(huì)形成廢水、廢料、有機(jī)廢氣，對(duì)自然環(huán)境產(chǎn)生明顯的環(huán)境污染。不發(fā)生空氣污染、生產(chǎn)制造高效率的磁控測(cè)射表層的鍍膜規(guī)律可不錯(cuò)處理這一難點(diǎn)。