
真空鍍膜設(shè)備的特點(diǎn)
文章作者:廣東振華科技
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發(fā)布時(shí)間:2023-02-20
1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um)。
2、真空鍍膜設(shè)備可以鍍多種塑料如:ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA等。
3、 成膜溫度低。在鋼鐵工業(yè)中,熱鍍鋅的鍍層溫度一般在400℃~500℃之間,化學(xué)鍍層的溫度在1000℃以上。這樣的高溫容易引起工件的變形和變質(zhì),而真空鍍膜溫度較低,可以降低到常溫,避免了傳統(tǒng)鍍膜工藝的缺點(diǎn)。
4、 蒸發(fā)源的選擇有很大的自由度。涂料的種類很多,不受材料熔點(diǎn)的限制??慑兌喾N金屬氮化物薄膜、金屬氧化物薄膜、金屬碳化材料及各種復(fù)合薄膜。
5、 不使用有害氣體或液體,對環(huán)境無不良影響。在當(dāng)前越來越重視環(huán)境保護(hù)的趨勢下,這是極為寶貴的。
6、帶鋼涂層質(zhì)量良好??色@得均勻、光滑、極薄、純度高、耐蝕性好、附著力強(qiáng)的薄膜。熱浸鍍鋅不存在漏點(diǎn)、鋅波、鋅片等問題。
7、 工藝靈活,品種容易改變??蓡蚊?、雙面、單層、多層、混合層電鍍。