1、實際操作易控。 表層的鍍膜全過程，只需維持工作中氣體壓強 額定功率等磁控濺射標準比較平穩(wěn) 就能得到相對穩(wěn)定的沉淀速度。

2、沉積速率高。在沉積絕大多數的合金塑料薄膜，尤其是沉積高溶點的金屬材料和金屬氫化物塑料薄膜時，如磁控濺射鎢、鋁塑料薄膜和反應濺射TiO2、ZrO2塑料薄膜，具備很高的沉積率。

3、膜的堅固性好。磁控測射塑料薄膜與基鋼板擁有非常好的粘合力，沖擊韌性也獲得了改進

4、涂膜高密度、勻稱。磁控濺射的塑料薄膜集聚相對密度普遍提高了。從顯微照片看，磁控濺射的溥膜表層外部經濟外貌較為精美細膩，并且十分勻稱。

5、磁控測射鍍膜機的塑料薄膜均具備良好的特性。如磁控測射的陶瓷膜一般 能獲取較好的光電特性，電力學特性及一些獨特特性.

6、便于機構批量生產。磁控源能夠按照需要開展擴張，因而大規(guī)模表層的鍍膜是很容易完成的。

7、加工工藝環(huán)境保護。傳統(tǒng)式的濕式電鍍工藝會形成廢水、廢料、有機廢氣，對自然環(huán)境產生明顯的環(huán)境污染。不發(fā)生空氣污染、生產制造高效率的磁控測射表層的鍍膜規(guī)律可不錯處理這一難點。