電阻加熱式蒸發(fā)源

    就蒸發(fā)源而言,電阻加熱蒸發(fā)源是應(yīng)用最廣泛的蒸發(fā)源。該蒸發(fā)源的加熱材料通常是高熔點(diǎn)金屬,如W、Mo、Ta、Nb或Ni、Ni-Cr合金。這些材料被加工成各種合適的形狀以承載待蒸發(fā)的膜材料。蒸發(fā)源的加熱方法為使用大電流通過蒸發(fā)源產(chǎn)生熱量,從而直接加熱和蒸發(fā)膜材料。

    電阻加熱式蒸發(fā)源的特點(diǎn)、使用要求及選材

    電阻加熱式蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)簡單,使用方便;能夠蒸發(fā)溫度小于1500℃的鋁、金、銀等金屬,也能蒸發(fā)某些硫化物、氟化物和氧化物;對蒸發(fā)源材料的自身熔點(diǎn)要求高,通常需要高于被蒸發(fā)的材料;要求蒸發(fā)源材料的飽和蒸汽壓要低,以便于蒸發(fā)過程中不會因?yàn)檎魵鈮哼^高而產(chǎn)生飛濺或?qū)е略O(shè)備損壞;要求蒸發(fā)源材料的化學(xué)性能穩(wěn)定,且具有良好的耐執(zhí)性,熱源變化時(shí),功率密度變化較小;蒸發(fā)源對膜材料的“濕潤性”好有利于膜材的附著和生長。

    加熱所用電阻材料的要求是:高熔點(diǎn),蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)必須高干蒸發(fā)膜材的熔點(diǎn),這樣才能避免蒸發(fā)源材料與膜材一起熔化;低的飽和蒸汽壓,電阻材料的飽和蒸汽壓要足夠低,以便于在蒸發(fā)過程中不影響真空度和膜層的污染;良好的導(dǎo)電性能,電阻材料需要具有良好的導(dǎo)電性能,以便于加熱蒸發(fā)過程可以順利進(jìn)行;化學(xué)性能穩(wěn)定,加熱蒸發(fā)源后,要確保電阻材料不會與膜材發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成化合物。如W、Mo、Ta等這些材料具有高熔點(diǎn)、高強(qiáng)度、良好的導(dǎo)電性和耐腐蝕性等特點(diǎn)因此適合用于真空蒸發(fā)鍍膜工藝中的電阻加熱源。石墨和氮化硼合成導(dǎo)電陶瓷等材料具有高強(qiáng)度、高硬度和良好的導(dǎo)熱性,因此也常用于制作加熱元件和電極。這些材料的耐腐蝕性能也很好,適用于各種環(huán)境下的加熱和蒸發(fā)過程。對于某些特定的鍍膜工藝,這些材料可以作為蒸發(fā)源用于制備各種涂層和薄膜。

——本文由蒸發(fā)鍍膜設(shè)備廠家振華真空發(fā)布