設備采用電子束蒸發(fā)技術，電子從陰極燈絲發(fā)射，聚焦成一定的束流，經過陰極與坩堝之間的電位加速，使鍍料熔化蒸發(fā)，具有能量密度高的特點，可使熔點高達3000攝氏度以上的鍍料實現蒸發(fā)。膜層純度高，熱效率高。
設備配備電子束蒸發(fā)源、離子源、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)、膜厚修正結構、穩(wěn)定的傘狀工件旋轉系統(tǒng)；通過離子源輔助鍍膜，增加膜層致密性，穩(wěn)定折射率，避免波長受潮偏移現象；通過全自動膜厚實時監(jiān)測系統(tǒng)可保證工藝的重復性及穩(wěn)定性；配備了自熔料功能，降低對操作工的技能依賴。
設備適用于各種氧化物及金屬鍍料；可鍍制多層精密光學膜，如AR膜、長波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等；已廣泛應用于AR眼鏡片、光學鏡頭、攝像頭、光學鏡片、濾光片等。
