該鍍膜線要用于單面或雙面沉積透明導(dǎo)電薄膜金屬氧化物及單質(zhì)金屬膜層。采用模塊化設(shè)計(jì)，方便日后擴(kuò)展升級；鍍膜線的鍍膜室長期保持高真空狀態(tài)，雜氣少，膜層純凈度高，折射率好；工藝參數(shù)可追溯，生產(chǎn)過程實(shí)現(xiàn)全程監(jiān)控，方便追蹤生產(chǎn)不良；設(shè)備自動化程度高，配合機(jī)械手使用可銜接上下工序，實(shí)現(xiàn)連續(xù)穩(wěn)定的流水線作業(yè)；設(shè)備產(chǎn)量高達(dá)萬片/小時(shí)，生產(chǎn)節(jié)拍快，產(chǎn)量大，實(shí)現(xiàn)有效降本增效。

主要應(yīng)用于晶硅電池、碲化鎘電池、鈣鈦礦電池、建筑玻璃、TCO導(dǎo)電玻璃等產(chǎn)品。

01.產(chǎn)能:8000-12000片/小時(shí)

02.設(shè)計(jì):定制化，降本增效，保密專屬

03.優(yōu)化:提供更大膜寬，穩(wěn)定等離子體場域， 增加膜層均勻度

04.工藝:可承載多臺陰極，可供不同折射率膜層疊加，達(dá)成電池受光面減反功能

05.靶材:旋轉(zhuǎn)靶材使用率高

06.穩(wěn)定:配合不同靶材與陰極做到穩(wěn)定電控的PID回饋，維持靶材使用期間膜厚的均一性

備注：設(shè)備可根據(jù)客戶要求定制。