該設(shè)備采用陰極電弧離子鍍膜技術(shù)，配備先進(jìn)IET刻蝕系統(tǒng)，產(chǎn)品經(jīng)過(guò)處理后，不需要過(guò)渡層，即可直接沉積硬質(zhì)涂層；同時(shí)在傳統(tǒng)電弧技術(shù)上升級(jí)為永磁加電磁線圈掃描技術(shù)，該技術(shù)可有效增強(qiáng)離子能量、提高離化率及靶材利用率，加快弧斑運(yùn)動(dòng)速度，可有效抑制液滴產(chǎn)生，降低膜層粗糙度，使膜層的摩擦系數(shù)更低，特別針對(duì)含鋁靶材有顯著提升，有效提高工件的使用壽命。配備最新輕量化三維夾具，均勻性及穩(wěn)定性更好。

設(shè)備可鍍制AlTiN/AlCrN/TiCrAlN/TiAlSiN/CrN等耐高溫超硬涂層，已廣泛應(yīng)用于模具類(lèi)、刀具類(lèi)、沖頭、汽車(chē)零部件、活塞類(lèi)等產(chǎn)品。

技術(shù)特點(diǎn)：

1.增強(qiáng)等離子體、強(qiáng)電磁旋轉(zhuǎn)掃描運(yùn)動(dòng)冷陰極、繞射性強(qiáng)、膜層致密；

2.濺射距離遠(yuǎn)、能量高、結(jié)合力好；

3.引弧陽(yáng)極可調(diào)節(jié)距離，不用停機(jī)維護(hù)；                               

4.翻轉(zhuǎn)軌道式結(jié)構(gòu)，方便更換維護(hù)冷陰極；

5.弧斑位置可控，可根據(jù)不同的材料，調(diào)節(jié)不同的磁場(chǎng)模式。

涂層性能舉例：