真空離子鍍膜技術(shù)（簡稱離子鍍）是由美國Sandin公司開發(fā)的將真空蒸發(fā)和真空濺射結(jié)合的一種鍍膜技術(shù)。離子鍍膜過程是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在被鍍基片表面的過程。

離子鍍膜層的沉積離子來源于各種類型的蒸發(fā)源或?yàn)R射源，從離子來源的角度可分成蒸發(fā)離子鍍和濺射離子鍍兩大類：

• （1）蒸發(fā)離子鍍。通過各種加熱方式加熱鍍膜材料，使之蒸發(fā)產(chǎn)生金屬蒸氣，將其引入以各種方式激勵(lì)產(chǎn)生的氣體放電空間中使之電離成金屬離子，它們到達(dá)施加負(fù)偏壓的基片上沉積成膜。
• （2）濺射離子鍍。通過采用高能離子對(duì)膜材表面進(jìn)行濺射而產(chǎn)生金屬粒子，金屬粒子在氣體放電空間電離成金屬離子，它們到達(dá)施加負(fù)偏壓的基片上沉積成膜。

離子鍍與蒸發(fā)鍍、濺射鍍相比最大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基片與膜層，一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，具體如下：

• 1、膜-基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。
• 2、繞鍍性好，改善了表面的覆蓋度。
• 3、鍍層均勻、組織致密、針孔和氣泡少。
• 4、沉積速率高，成膜速度快，可鍍制30um的厚膜。
• 5、真空離子鍍膜設(shè)備所適用的基體材料與膜材范圍廣泛。適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬、化合物、非金屬材料的膜層。如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料的表面鍍膜。