真空蒸鍍工藝一般包括基片表面清潔、鍍膜前的準(zhǔn)備、蒸鍍、取件、鍍后處理、檢測、成品等步驟。

    (1)基片表面清潔。真空室內(nèi)壁、基片架等表面的油污、銹跡、殘余鍍料等在真空中易蒸發(fā),直接影響膜層的純度和結(jié)合力,鍍前必須清潔干凈。

    (2)鍍前準(zhǔn)備。鍍膜空抽真空到合適的真空度,對基片和鍍膜材料進(jìn)行預(yù)處理。加熱基片,其目的是去除水分和增強膜基結(jié)合力。在高真空下加熱基片,能夠使基片的表面吸附的氣體脫附,然后經(jīng)真空泵抽氣排出真空室,有利于提高鍍膜室真空度、膜層純度和膜基結(jié)合力。達(dá)到一定真空度后,先對蒸發(fā)源通以較低功率的電,進(jìn)行膜料的預(yù)熱或者預(yù)熔。為防止蒸發(fā)到基板上,用擋板遮蓋住蒸發(fā)源及源物質(zhì),然后輸入較大功率的電,將鍍膜材料迅速加熱到蒸發(fā)溫度,蒸鍍時再移開擋板。

    (3)蒸鍍。在蒸鍍階段除要選擇合適的基片溫度、鍍料蒸發(fā)溫度外沉積氣壓也是一個很重要的參數(shù)。沉積氣壓即鍍膜室的真空度高低,決定了蒸鍍空間氣體分子運動的平均自由程和一定蒸發(fā)距離下的蒸氣與殘余氣體原子及蒸氣原子之間的碰撞次數(shù)。

    (4)取件。膜層厚度達(dá)到要求以后,用擋板蓋住蒸發(fā)源并停止加熱,但不要馬上導(dǎo)人空氣,需要在真空條件下繼續(xù)冷卻一段時間,進(jìn)行降溫,防止鍍層、剩余鍍料及電阻、蒸發(fā)源等被氧化,然后停止抽氣,再充氣,打開真空室取出基片。

——本文由光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家振華真空發(fā)布