(1)濺射鍍膜是物理鍍膜方法,其基本原理是利用輝光放電產(chǎn)生的高速離子轟擊靶材表面,使靶材中的原子或分子逸出并沉積到被鍍工件的表面,形成薄膜。而真空蒸發(fā)鍍膜則利用電阻加熱法將靶材加熱至熔化,然后蒸發(fā)并沉積到被鍍工件的表面。

    (2)濺射鍍膜的沉積粒子大多呈原子狀態(tài),被稱為濺射原子。而真空蒸發(fā)鍍膜則是通過加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,然后沉降到基片表面形成薄膜。

    (3)濺射鍍膜的粒子帶一定的動(dòng)能,因此它們可以沿一定方向射向基體表面,并在基體表面形成鍍層。而真空蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)粒子一般沒有這個(gè)特性。

    (4)濺射鍍膜的膜層厚度可控性和重復(fù)性好。這是因?yàn)樵跒R射鍍膜過程中,可以通過控制人射離子的數(shù)量和能量以及濺射時(shí)間等參數(shù)來實(shí)現(xiàn)對(duì)膜層厚度的精確控制,同時(shí),濺射鍍膜的工藝重復(fù)性好,使得批量生產(chǎn)的鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定可靠。

    (5)濺射鍍膜可以用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料,這是由于其加熱源并非簡單的電阻加熱,而是電子束加熱或激光加熱。大功率激光器的造價(jià)很高,目前只能在少數(shù)研究型實(shí)驗(yàn)室中使用。

    (6)濺射鍍膜的過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上,輝光放電的來源可以是直流輝光放電、熱陰極支持的輝光放電、射頻輝光放電或環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。

——本文由磁控濺射設(shè)備廠家振華真空發(fā)布