將鎢絲加熱到發(fā)射熱電子的高溫發(fā)射高密度電子流，同時要設(shè)置加速電極將熱電子加速成為高能量的電子流。高密度、高能量的電子流可以將更多的氯氣電離，將更多的金屬膜層原子電離以獲得更多的氯離子來提高濺射速率，從而提高沉積速率:可以將更多的金屬電離提高金屬的離化率，有利于反應沉積獲得化合物膜;金屬膜層離子到達工件，提高工件的電流密度，從而提高沉積速率。在磁控濺射鍍硬質(zhì)涂層時，增設(shè)熱陰極前后工件的電流密度和膜層組織。TiSiCN加設(shè)熱陰極前，工件上電流密度僅為 0.2mA/mm，增加了熱陰極以后提高到4.9mA/mm2，相當于提高了 24 倍左右，而且膜層組織更細密。由此可見，在磁控濺射鍍膜技術(shù)中，增設(shè)熱陰極對提高磁控濺射沉積速率和提高膜層粒子活性是非常有效的。該技術(shù)可顯著提高汽輪機葉片、泥漿泵柱塞、研磨機零件的壽命。

——本文由磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家廣東振華發(fā)布