
熱絲弧離子鍍膜的工藝過程
文章作者:廣東振華科技
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發(fā)布時(shí)間:2023-09-28
1.引燃熱絲弧放電
將鉭絲(鎢絲)加熱至 2300K 以上,鉭絲呈白熾狀態(tài),可發(fā)射大量熱電子流,向熱絲弧槍室通入氬氣,熱電子流把氬氣電離再次增加等離子體電子流密度。從熱絲弧槍室向陽極發(fā)射出高密度電子流弧柱,弧電壓為 50V 左右,弧電流為150~200A。
2.加熱工工件
將弧電源正極接工件,弧光電子流射向工件,轟擊加熱工件
3.清洗工件
將弧電源正極接坩堝周圍的輔助陽極,工件接偏壓電源負(fù)極。熱絲弧發(fā)射的電子流在射向輔助陽極的過程中電離氬氣,用離子轟擊清洗工件。
4.鍍 TiN薄膜
將弧電源正極接坩堝,通人氮?dú)狻;」怆娮恿魃湎蜊釄鍍?nèi)的金屬錠上,把金屬加熱蒸發(fā)。金屬蒸氣原子與通入的氮?dú)舛急换」怆娮恿麟婋x,得到高密度金屬離子、氮離子、金屬活性原子、氮的活性原子和活性基團(tuán),它們到達(dá)工件表面化合反應(yīng)生成 TiN 薄膜。
5.調(diào)整線圈電流
在工件的加熱、清洗和鍍膜過中,需要不斷調(diào)整電磁線圈的電流來改變電的旋轉(zhuǎn)半徑。