1、轟擊清晰工件

1）沉積功能薄膜的磁控射離子機中，采用輝光放電產生的氬離子清洗工件。即向鍍膜室充入氬氣，放電電壓為 1000V左右，接通電源以后產生輝光放電，用氬離子轟擊清洗工件。

2)產業(yè)化生產高端裝飾品的磁控濺射鍍膜機中，多采用小弧源發(fā)射的鈦離子進行清洗。磁控濺射鍍膜機配置小弧源，用小弧源放電產生的弧光等離子體中的鈦離子流轟擊清洗工件。

2.鍍氮化鈦膜層

    沉積氮化鈦薄膜時，磁控濺射靶靶材選用鈦靶。靶材接磁控濺射電源的負極，靶電壓為400~500V；氬氣的通入量固定，控制真空度為(3~8)x10-1PA，工件接偏壓電源的負極，電壓為100~200V。

    開啟磁控濺射鈦靶電源后產生輝光放電，高能的氬離子轟擊濺射靶材，從靶材上濺射出鈦原子。

    通入反應氣體氮氣，鈦原子和氮氣在鍍膜室內被電離成為鈦離子、氮離子。在工件所加負偏壓電場的吸引下，鈦離子、氮離子加速到達工件表面化合反應沉積生成氮化鈦膜層。

3.取出工件

達到預定的膜層厚度以后，關閉磁控濺射電源、工件偏壓電源、氣源。待工件溫度低于 120℃后，向鍍膜室通人空氣，取出工件。

本文由磁控濺射鍍膜機廠家——廣東振華發(fā)布。