當(dāng)膜材原子開始沉積時(shí)，離子轟擊對(duì)膜/基界面會(huì)產(chǎn)生如下影響:

(1) 物理混合。因?yàn)楦吣茈x子注人，沉積原子的被濺射以及表面原子的反沖注入與級(jí)聯(lián)碰撞現(xiàn)象，將引起近表面區(qū)膜/基界面的基片元素和膜材元素的非擴(kuò)散型混合，這種混合效果將有利于在膜/基界面間形成“偽擴(kuò)散層”，即膜/基界面間的過(guò)渡層，厚達(dá)幾微米其中甚至?xí)霈F(xiàn)新相。這對(duì)提高膜/基界面的附著強(qiáng)度是十分有利的。

(2) 增強(qiáng)擴(kuò)散。近表面區(qū)的高缺陷濃度和較高的溫度會(huì)提高擴(kuò)散率。由于表面是點(diǎn)缺陷，小離子有偏析表面的傾向，離子轟擊有進(jìn)一步強(qiáng)化表面偏折的作用并增強(qiáng)沉積原子和基片原子的相互擴(kuò)散。

(3) 改善成核模式。原子凝結(jié)在基片表面上的特性是由它的表面的相互作用及它在表面上的遷移特性所決定。如果凝結(jié)原子和基片表面之間沒(méi)有很強(qiáng)的相互作用，原子將在表面上擴(kuò)散，直到它在高能位置上成核或被其他擴(kuò)散原子碰撞為止。這種成核模式稱非反應(yīng)性成核。即使原來(lái)屬于非反應(yīng)性成核模式的情況，經(jīng)離子轟擊基片表面可產(chǎn)生更多缺陷

增加了成核密度，從而更有利于形成擴(kuò)散-反應(yīng)型成核模式。

(4)優(yōu)先除掉松散結(jié)合的原子。表面原子的濺射決定于局部的結(jié)合狀態(tài)，對(duì)表面的離子轟擊更有可能濺射掉結(jié)合較為松散的原子。這種效果在形成擴(kuò)散-反應(yīng)型的界面時(shí)更為明顯。

(5)改善表面覆蓋度，增強(qiáng)繞鍍性。由于離子鍍的工作氣壓較高，蒸發(fā)或?yàn)R射的原子受到氣體原子的碰撞使散射作用增強(qiáng)，產(chǎn)生了良好的鍍膜繞射性。