PVD（Physical Vapor Deposition）即物理氣相沉積，是一種通過物理方法在基材表面沉積薄膜的電鍍工藝。PVD鍍膜工藝流程通常包括以下步驟：

一、前處理

清洗工件：在進行PVD鍍膜前，需要對工件進行徹底的清洗，以去除表面的雜質(zhì)、油脂、氧化物等有害物質(zhì)，確保工件表面平整干凈。清洗時，可以接通直流電源，利用氬氣進行輝光放電，產(chǎn)生氬離子轟擊工件表面，使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出。

預(yù)處理：清洗后的工件可能還需要經(jīng)過進一步的預(yù)處理，如機械打磨、化學腐蝕、激光處理等，以提高電鍍膜的附著力和均勻度。

二、鍍膜準備

蒸發(fā)源裝填：在PVD鍍膜過程中，需要使用蒸發(fā)源來提供材料原子。蒸發(fā)源裝填是將材料蒸發(fā)源放置在特定的位置，以便在鍍膜過程中通過加熱使其蒸發(fā)。

抽真空：將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走，以創(chuàng)造鍍膜所需的真空環(huán)境條件。

加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放，進一步提高真空度。

壓升率測試：測試爐體的漏氣率和放氣率，確保真空環(huán)境條件滿足鍍膜標準。

三、鍍膜過程

鍍料的氣化：通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

鍍料離子的遷移：氣化后的原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場的作用，高速沖向工件。

鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：當工件表面上的蒸發(fā)料離子數(shù)量超過濺失離子的數(shù)量時，這些離子將逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。如果是鍍離子鍍，蒸發(fā)料粒子電離后具有高能量，高速轟擊工件時，不僅沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層。

四、后處理

冷卻出爐：鍍膜完成后，需要冷卻工件以避免氧化變色。冷卻過程中，可以充入氮氣或氦氣等冷卻氣體，以提高降溫速度。

拋光與清洗：對鍍膜后的工件進行拋光和清洗，以去除表面污染物，提高薄膜質(zhì)量。

其他后處理：根據(jù)具體需求，可能還需要進行其他后處理步驟，如AFP處理等，以保護薄膜不受外界環(huán)境的影響。

PVD鍍膜工藝具有鍍層純度高、附著力強、環(huán)保等優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于電子、光學、鋼鐵、汽車等領(lǐng)域。同時，該工藝也具有一定的技術(shù)特點，如可以在金屬表面鍍覆高硬度、高耐磨性的金屬陶瓷裝飾鍍層等。

——本文由真空鍍膜設(shè)備廠家振華真空發(fā)布