
卷繞式真空鍍膜機的設(shè)計特點是什么
卷繞式真空鍍膜機在最近幾十年來有較大的發(fā)展,該設(shè)備的鍍膜產(chǎn)品進行廣泛用在裝飾領(lǐng)域、包裝行業(yè)、電容器鍍膜等各項應(yīng)用領(lǐng)域中, 能鍍上多種諸如光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)體、半導(dǎo)體等多種不同材質(zhì)與類型的薄膜。卷繞式真空鍍膜機用到的各種基材包括了PP、PI、PE、PET、BOPP、OPP、塑料泡沫、布還有紙等等。對于紙與塑料來說,一般采用具有含水量為1~2%的塑料基薄膜復(fù)合材料;5~7%的含水紙料經(jīng)加工烘干后,還剩差不多3%左右的含水量。
由于紙料、塑料等傳統(tǒng)基材的整體含水量較高,因此,現(xiàn)如今的<strong>卷繞式真空鍍膜機的鍍膜室有了設(shè)計改動,目前已經(jīng)自初始的單室結(jié)構(gòu)發(fā)展到雙室、多室了。由于現(xiàn)今的雙室結(jié)構(gòu)設(shè)計應(yīng)用較多,針對于雙室結(jié)構(gòu)設(shè)計,接下來講述雙室結(jié)構(gòu)的卷繞式真空鍍膜機特點:
1、該雙室鍍膜設(shè)備的蒸鍍室卷與繞室可以分別抽氣,大大縮短了抽氣流程的時間段。
2、雙室卷繞式鍍膜設(shè)備的蒸鍍室的氣體比較少,裝配小的氣泵組就夠用了,相對單室結(jié)構(gòu)更節(jié)能。
3、能夠在保證鏡面膜的質(zhì)量的同時,適用于放氣量很大的紙料(兩室間隔板縫隙小,不會輕易漏氣)。
卷繞式真空鍍膜機的結(jié)構(gòu)比較特殊,不僅有同類型鍍膜設(shè)備的構(gòu)造,還設(shè)計了卷套裝置。由于所作用的基材是紙、塑料等放氣量多的材料,因此,在卷繞式真空鍍膜機進行設(shè)計中應(yīng)針對考慮的幾個方面問題:
1、基材帶狀容易導(dǎo)致的偏差和打褶問題。卷繞鍍膜機的卷繞速度越來越快的同時,由于基材帶狀而可能造成在鍍膜卷繞期間出現(xiàn)偏斜、打褶等狀況,可能導(dǎo)致基材的斷裂問題,而中斷生產(chǎn)。對材料的浪費、生產(chǎn)效率的影響頗大。所以我們在卷繞式真空鍍膜機的設(shè)計之時對這一問題給予了充分考慮與調(diào)整。
2、基材帶狀要保持線速度恒定。我們通過卷繞式真空鍍膜機的卷繞機制線速保持恒定,保證了基材上的鍍層厚度的均勻性。尤其在帶狀基材上需要制備諸如電容薄膜之類的功能薄膜的情況下,顯得更加重要。
3、卷繞式真空鍍膜機的整體運行速度的提高。 我們通過提高卷繞速度,也就是帶材基材運轉(zhuǎn)的線速度,是該設(shè)備的主要技術(shù)指標之一。 國內(nèi)早期鍍膜機的卷繞速度只有10m/min,現(xiàn)在大部分也到了120m/min??梢钥闯?,隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展,卷繞速度在快速發(fā)展。
卷繞式真空鍍膜機的抽氣系統(tǒng)分上室下室兩組,上室為基材卷繞室,下室為蒸鍍室,他們分別有不同的設(shè)計要求標準:
1、上室(基材卷繞室)要求真空度相對較低,通常采用羅茨泵機組或擴散泵+羅茨泵+機械泵組。上室(基材卷繞室)的真空度較下室(蒸鍍室)低一個數(shù)據(jù)數(shù)量級。
<p>2、下室(蒸鍍室)要求不同,真空度要求高,主泵多為油擴散泵。一般下室(蒸鍍室)要達到的真空度為1X 10ˉ3帕~2 X 10ˉ3帕, 而工作環(huán)境壓力為1X 10ˉ2帕 X 10ˉ2 帕。