電阻蒸發(fā)源蒸鍍法是一種基本的真空蒸發(fā)鍍膜法，“蒸鍍”是指在真空室中，加熱蒸發(fā)鍍膜室中待形成薄膜的鍍膜材料，使材料原子或分子從表面氣化并且逸出，形成蒸汽流現(xiàn)象，入射到襯底或基片的表面，最終凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的一種薄膜制備方法。

    所謂電阻蒸發(fā)源蒸鍍法則是采用鉭，鉬，鎢等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓氣流通過(guò)，對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁，氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。這就是電阻加熱蒸發(fā)法。

    利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)擁有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)便宜，使用可靠等優(yōu)勢(shì)，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對(duì)鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中，仍有電阻加熱蒸發(fā)的鍍膜工藝的大量投入使用。

    電阻蒸發(fā)源蒸鍍法的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的最高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來(lái)，為了提高電阻蒸發(fā)源的壽命，國(guó)內(nèi)外的真空鍍膜設(shè)備廠已采用壽命較長(zhǎng)的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為蒸發(fā)源。據(jù)日本的一項(xiàng)專利報(bào)道，其可采用20％～30％的氮化硼和能與其相熔的耐火材料所組成的材料來(lái)制作蒸發(fā)源（坩鍋），并在它的表面涂上一層含62％～82％的鋯，其余為鋯硅合金材料。