輝光放電離子鍍技術(shù)使膜層粒子總體能量升高，這個(gè)突出優(yōu)點(diǎn)擴(kuò)展了真空鍍障技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域，成為 1963 年以來真空鍍膜技術(shù)發(fā)展的熱點(diǎn)。

    雖然直流二極型離子鍍膜的金屬離化率很低，只有 1%~3%，但它所體現(xiàn)出的優(yōu)點(diǎn)在生產(chǎn)實(shí)踐中已經(jīng)發(fā)揮了很大作用。例如:為提高飛機(jī)緊固件抵抗大氣、海洋環(huán)境的腐蝕，原來采用電鍍技術(shù)獲得鎘涂層，但鎘涂層中殘存的氫氣會產(chǎn)生“鎘脆”，容易引發(fā)飛機(jī)事故；D.M.Mattox 采用離子鍍鋁的方法，在飛機(jī)緊固件表面進(jìn)行離子鍍鋁膜，徹底解決了“鎘脆”問題，人們由此看到了等離子體能量在鍍膜技術(shù)中的作用。

    科技工作者希望充分發(fā)揮離子鍍技術(shù)的優(yōu)勢，擴(kuò)大離子鍍的應(yīng)用范圍，希望利用氣體放電所得的等離子體能量獲得化合物膜層，實(shí)現(xiàn)在高速鋼刀具上沉積 TiN的愿望。以往熱化學(xué)氣相沉積 TiN 硬質(zhì)涂層的溫度為 1000℃，希望將溫度降至高速鋼回火溫度 560℃以下。但實(shí)踐中發(fā)現(xiàn)，直流二極型離子鍍的金屬離化率較低，高能金屬離子數(shù)量較少，膜層粒子的整體能量不夠高，難以進(jìn)行反應(yīng)沉積，不易獲得化合物膜層。因此，人們又研發(fā)出了多種增強(qiáng)輝光放電強(qiáng)度和提高金屬離化率的離子鍍方法，目的是獲得更多的高能膜層粒子，使其在低溫下容易與反應(yīng)氣體進(jìn)行化合，獲得 TiN等硬質(zhì)涂層。