光學(xué)薄膜器件的制造是在真空室內(nèi)進(jìn)行的，同時(shí)膜層的生長(zhǎng)又是一個(gè)微觀過(guò)程,而目前能夠直接控制的卻是一些與膜層質(zhì)量有間接關(guān)系的宏觀因素的宏觀過(guò)程。即便如此，人們還是通過(guò)長(zhǎng)期堅(jiān)持不懈的實(shí)驗(yàn)研究，找到了膜層質(zhì)量與這些宏觀因素之間的規(guī)律性關(guān)系，成為指導(dǎo)游膜器件制造的工藝規(guī)范，對(duì)于制造質(zhì)量?jī)?yōu)良的光學(xué)薄膜器件發(fā)揮著重要的作用。

1.真空鍍的影響

  真空度對(duì)薄膜性能的影響是由于剩余氣體與膜料原子、分子的氣相碰撞所致的能量損失及化學(xué)反應(yīng)。若真空度低，致使膜料蒸氣分子與剩余氣體分子融撞概率增加，蒸汽分子動(dòng)能大大減小，使得蒸氣分子無(wú)法到達(dá)基片,或無(wú)力沖破基片上的氣體吸附層，或勉強(qiáng)能沖破氣體吸附層但與基片的吸附能卻很小，從而導(dǎo)致光學(xué)薄膜器件沉積的膜層疏松,聚積密度低,機(jī)械強(qiáng)度差,化學(xué)成分不純，使得膜層折射率、硬度變差。

  通常，隨著真空度的提高，膜層的結(jié)構(gòu)改善，化學(xué)成分變純，但應(yīng)力增大。金屬膜和半導(dǎo)體膜的純度越高越好，它們對(duì)真空度的依賴性很大，從而需要更高的直空度。受真空度影響的薄膜性能主要有：折射率、散射，機(jī)械強(qiáng)度和不溶性。

2.沉積速率的影響

  沉積速率是描述薄膜沉積快慢的工藝參量，用單位時(shí)間內(nèi)在被鍍表面上形成的膜層厚度表示,單位為 nm·s-1。

  沉積速率對(duì)膜層的折射率、牢固度、機(jī)械強(qiáng)度、附著力、應(yīng)力有明顯的影響。如果沉積速率較低，大多數(shù)蒸氣分子從基底返回，晶核生成緩慢，凝結(jié)只能在大的聚集體上進(jìn)行，從而使膜層結(jié)構(gòu)疏松；沉積速率提高,會(huì)形成顆粒細(xì)而致密的膜層，光散射減小，牢固度增加。因此,如何適當(dāng)?shù)剡x擇薄膜沉積的速率是蒸鍍工藝中的一個(gè)重要問(wèn)題，,具體選擇應(yīng)根據(jù)膜層材料確定。

  提高沉積速率的方法主要有兩種:① 提高蒸發(fā)源溫度法② 增大蒸發(fā)源面積法。