3.基片溫度的影響

  基片溫度是膜層生長(zhǎng)的重要條件之一。它對(duì)膜層原子或分子提供額外能量補(bǔ)充，主要影響膜層結(jié)構(gòu)、凝集系數(shù)、膨脹系數(shù)、聚集密度。宏觀反映在膜層折射率、散射、應(yīng)力、附著力、硬度和不溶性都會(huì)因基片溫度的不同而有較大差異。

（1）冷基片：一般用于蒸鍍金屬膜。

（2）高溫優(yōu)點(diǎn):

①將吸附在基片表面的剩余氣體分子排除，增加基片與沉積分子之間的結(jié)合力；

②)促使膜層物理吸附向化學(xué)吸附轉(zhuǎn)化，增強(qiáng)分子之間相互作用，使膜層緊密，附著力增大提高了機(jī)械強(qiáng)度；

③ 減少蒸氣分子再結(jié)晶溫度與基片溫度之間的差異，提高了膜層密集度，增加了膜層硬度消除內(nèi)應(yīng)力。

(3)溫度過高弊端：使膜層結(jié)構(gòu)變化或膜料分解。

4. 離子轟擊的影響

  鍍后轟擊：提高膜層聚集密度，增進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，使氧化物膜層的折射率增加，機(jī)械強(qiáng)度和抗激和附著力。光損傷閾值提高。

5.基片材料的影響

(1)基片材料的膨脹系數(shù)不同將導(dǎo)致薄膜熱應(yīng)力不同；

(2)化學(xué)親和力不同將影響膜層附著力和牢固度；

(3)基片的粗糙度和缺陷是薄膜散射的主要來源。

6.基片清潔的影響

  殘留在基片表面的污物和清潔劑將導(dǎo)致:① 膜層對(duì)基片的附著力差；② 散射吸收增大,抗激光能力差；③ 透光性能變差。

7.膜層材料的影響膜層材料的化學(xué)成分(純度和雜質(zhì)種類)、物理狀態(tài)(粉或塊)、預(yù)處理(真空燒結(jié)或鍛壓)將影響膜層結(jié)構(gòu)和性能。

8.蒸發(fā)方法的影響

不同的蒸發(fā)方法提供給蒸發(fā)分子和原子的初始動(dòng)能差異很大,導(dǎo)致膜層結(jié)構(gòu)有較大差異表現(xiàn)為折射率、散射、附著力有差異。

9.蒸氣入射角的影響

  蒸氣入射角指蒸氣分子人射方向與被鍍基片表面法線的夾角,它影響著膜層的生長(zhǎng)特性和聚集密度,對(duì)膜層的折射率和散射特性有較大影響。為了獲得高質(zhì)量薄膜,需要控制膜料蒸氣分子的人射角,一般應(yīng)限制在 30°之內(nèi)。

10.烘烤處理的影響

  在大氣中對(duì)膜層加溫處理,有利于應(yīng)力釋放和環(huán)境氣體分子及膜層分子的熱遷移,可使膜層結(jié)構(gòu)重組，所以，對(duì)膜層折射率、應(yīng)力、硬度有較大影響。