該設備采用陰極電弧離子鍍膜技術(shù)，配備先進IET刻蝕系統(tǒng)，產(chǎn)品經(jīng)過處理后，不需要過渡層，即可直接沉積硬質(zhì)涂層；同時在傳統(tǒng)電弧技術(shù)上升級為永磁加電磁線圈掃描技術(shù)，該技術(shù)可有效增強離子能量、提高離化率及靶材利用率，加快弧斑運動速度，可有效抑制液滴產(chǎn)生，降低膜層粗糙度，使膜層的摩擦系數(shù)更低，特別針對含鋁靶材有顯著提升，有效提高工件的使用壽命。配備最新輕量化三維夾具，均勻性及穩(wěn)定性更好。

設備可鍍制AlTiN/AlCrN/TiCrAlN/TiAlSiN/CrN等耐高溫超硬涂層，已廣泛應用于模具類、刀具類、沖頭、汽車零部件、活塞類等產(chǎn)品。

技術(shù)特點：

1.增強等離子體、強電磁旋轉(zhuǎn)掃描運動冷陰極、繞射性強、膜層致密；

2.濺射距離遠、能量高、結(jié)合力好；

3.引弧陽極可調(diào)節(jié)距離，不用停機維護；                               

4.翻轉(zhuǎn)軌道式結(jié)構(gòu)，方便更換維護冷陰極；

5.弧斑位置可控，可根據(jù)不同的材料，調(diào)節(jié)不同的磁場模式。

涂層性能舉例：