設(shè)備配置了中頻磁控濺射鍍膜系統(tǒng)+陽極層離子源+SPEEDFLO閉環(huán)控制+晶控監(jiān)測系統(tǒng)。
采用中頻磁控濺射技術(shù)沉積各類氧化物，對比傳統(tǒng)的電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，具有更大的裝載量，且可適應(yīng)更多形狀的產(chǎn)品，膜層致密性更高，附著力更強，不易吸附水汽分子，在各類環(huán)境中能保持更穩(wěn)定的光學(xué)性能。
設(shè)備適用于玻璃、水晶、陶瓷及耐溫塑膠類產(chǎn)品；可沉積各類氧化物、單質(zhì)金屬，可制備增亮彩膜、漸變彩膜等介質(zhì)膜。設(shè)備已廣泛應(yīng)用于香水瓶、化妝品玻璃瓶、唇膏蓋、水晶裝飾件、太陽眼鏡、滑雪防護鏡、小五金件等裝飾性產(chǎn)品。
