隨著手機產(chǎn)業(yè)需求迅速增長，傳統(tǒng)光學機的裝載量已無法滿足，振華為解決這一需求推出了磁控濺射鍍光學膜設(shè)備。

設(shè)備特點：

（1）工件架采用圓筒式設(shè)計，鍍膜面積大，產(chǎn)品裝載量是同規(guī)格電子束蒸發(fā)設(shè)備的2倍。工件架設(shè)計公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，可適應(yīng)多種形狀工件，用途更廣；

（2）采用中頻磁控圓柱靶濺射系統(tǒng)及離子源輔助系統(tǒng)，膜層致密，折射率高且穩(wěn)定，附著力強，不易吸附水汽分子，在各類環(huán)境中，比傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)設(shè)備所沉積的膜層保持更穩(wěn)定的光學性能；

（3）配備了晶控監(jiān)測系統(tǒng)精確控制膜層厚度，工藝穩(wěn)定性高，重復性好；SPEEDFLO閉環(huán)及全自動控制系統(tǒng)，有效提高SiO2的沉積速率；

（4）恒溫夾具設(shè)計有效控制產(chǎn)品溫度，可適應(yīng)超薄PET、PC材質(zhì)類產(chǎn)品。

設(shè)備可用于沉積TiO2、SiO2、Nb2O5、In、Ag、Cr等材料，可實現(xiàn)各類光學彩膜、AR膜、分光膜等，已廣泛應(yīng)用于PET膜片/復合板、手機蓋板玻璃、手機中框、3C電子產(chǎn)品、太陽眼鏡、香水瓶、水晶等產(chǎn)品。