設(shè)備采用電子束蒸發(fā)技術(shù)，電子從陰極燈絲發(fā)射，聚焦成一定的束流，經(jīng)過陰極與坩堝之間的電位加速，使鍍料熔化蒸發(fā)，具有能量密度高的特點(diǎn)，可使熔點(diǎn)高達(dá)3000攝氏度以上的鍍料實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)。膜層純度高，熱效率高。

設(shè)備配備電子束蒸發(fā)源、離子源、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)、膜厚修正結(jié)構(gòu)、穩(wěn)定的傘狀工件旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)；通過離子源輔助鍍膜，增加膜層致密性，穩(wěn)定折射率，避免波長受潮偏移現(xiàn)象；通過全自動(dòng)膜厚實(shí)時(shí)監(jiān)測系統(tǒng)可保證工藝的重復(fù)性及穩(wěn)定性；配備了自熔料功能，降低對(duì)操作工的技能依賴。

設(shè)備適用于各種氧化物及金屬鍍料；可鍍制多層精密光學(xué)膜，如AR膜、長波通、短波通、增亮膜、AS/AF膜、IRCUT、彩色膜系、漸變膜系等；已廣泛應(yīng)用于AR眼鏡片、光學(xué)鏡頭、攝像頭、光學(xué)鏡片、濾光片等。