
真空蒸鍍的簡(jiǎn)介
文章作者:廣東振華科技
閱讀:2107
發(fā)布時(shí)間:2023-08-17
真空蒸發(fā)鍍膜(簡(jiǎn)稱蒸鍍)是在真空環(huán)境下,用蒸發(fā)器加熱膜材使之氣化,膜材蒸發(fā)的粒子流直接射向基片并在基片上沉積,形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。真空蒸鍍是 PVD 技術(shù)中發(fā)展最早,應(yīng)用較為廣泛的鎮(zhèn)膜技術(shù),盡管后來(lái)發(fā)展起來(lái)的濺射鍍和離子鍍?cè)谠S多方面要比真空蒸鍍優(yōu)越,但真空蒸發(fā)鎮(zhèn)膜技術(shù)仍有許多優(yōu)點(diǎn),如設(shè)備與工藝相對(duì)比較簡(jiǎn)單,既可沉積非常純凈的膜層,又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等,所以仍然是當(dāng)今應(yīng)用的重要真空鍍膜技術(shù)。這種方法的主要缺點(diǎn)是不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜,薄膜在基板上的附著力較小,另外工藝重復(fù)性不夠好,等等。
近年來(lái)由于電子轟擊蒸發(fā)、高頻感應(yīng)蒸發(fā)以及激光蒸發(fā)等技術(shù)在真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的普遍應(yīng)用,使這一技術(shù)更趨完善,并廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電真空、 無(wú)線電、光學(xué)、原子能找術(shù)等領(lǐng)城。