真空蒸發(fā)鍍膜（簡(jiǎn)稱蒸鍍）是在真空環(huán)境下，用蒸發(fā)器加熱膜材使之氣化，膜材蒸發(fā)的粒子流直接射向基片并在基片上沉積，形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。真空蒸鍍是 PVD 技術(shù)中發(fā)展最早，應(yīng)用較為廣泛的鎮(zhèn)膜技術(shù)，盡管后來(lái)發(fā)展起來(lái)的濺射鍍和離子鍍?cè)谠S多方面要比真空蒸鍍優(yōu)越，但真空蒸發(fā)鎮(zhèn)膜技術(shù)仍有許多優(yōu)點(diǎn)，如設(shè)備與工藝相對(duì)比較簡(jiǎn)單，既可沉積非常純凈的膜層，又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等，所以仍然是當(dāng)今應(yīng)用的重要真空鍍膜技術(shù)。這種方法的主要缺點(diǎn)是不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜，薄膜在基板上的附著力較小，另外工藝重復(fù)性不夠好，等等。

  近年來(lái)由于電子轟擊蒸發(fā)、高頻感應(yīng)蒸發(fā)以及激光蒸發(fā)等技術(shù)在真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的普遍應(yīng)用，使這一技術(shù)更趨完善，并廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電真空、 無(wú)線電、光學(xué)、原子能找術(shù)等領(lǐng)城。