離子鍍與蒸發(fā)鍍、濺射鍍相比，最大特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點。

    ①膜/基結(jié)合力(附著力)強，膜層不易脫落 由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，激活及加熱，既可去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可去除基體表面的氧化物。離子轟擊時產(chǎn)生的加熱和缺陷可引起基體的增強擴(kuò)散效應(yīng)，既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件;而且較高能量的離子轟擊，還可產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。

    ②離子鍍由于產(chǎn)生良好的繞射性 在壓力較高的情況下 (大于或等于1Pa) 被電離的蒸氣離子或分子在它到達(dá)基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞，因此可使膜材粒子散射在基體的周圍，從而改善了膜層的覆蓋性；而且被電離的膜材粒子還會在電場的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表面的任意位置上，這一點蒸發(fā)鍍是無法達(dá)到的。

    ③鍍層質(zhì)量高 由于離子轟擊可提高膜的致密度，改善膜的組織結(jié)構(gòu)，使得膜層的勻度好，鍍層組織致密，針孔和氣泡少，因此提高了膜層質(zhì)量。

    ④沉積速率高，成膜速度快，可制備 30um 的厚膜。

    ⑤鍍膜所適用的基體材料與膜材均比較廣泛 適用于在金屬或非金屬表面上鍍制金屬化合物、非金屬材料的膜層，如在鋼鐵、有色金屬、石英、陶瓷、塑料等各種材料的表面鍍膜。由于等離子體的活性有利于降低化合物的合成溫度，因此離子鍍比較容易地鍍制各種超硬化合物薄膜。

由于離子鍍具有上述特點，所以其應(yīng)用范圍極為廣泛。利用離子鍍技術(shù)可以在金屬、合金、導(dǎo)電材料甚至非導(dǎo)電材料 (采用高頻偏壓) 基體上進(jìn)行鍍膜。離子鍍沉積的膜層可以是金屬膜、多元合金膜、化合物膜，既可鍍單一鍍層，也可鍍復(fù)合鍍層;還可以鍍梯度鍍層和納米多層鍍層。采用不同的膜材，不同的反應(yīng)氣體以及不同的工藝方法和參數(shù)，可以獲得表面強化的硬質(zhì)耐磨鍍層、致密且化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定的耐蝕鍍層、固體潤滑層、各種色澤的裝飾鎖層以及電子學(xué)、光學(xué)、能源科學(xué)等所需的特殊功能鍍層。離子鍍技術(shù)和離子鍍的鍍層產(chǎn)品已得到非常廣泛的應(yīng)用。

——本文由離子鍍膜設(shè)備廠家廣東振華發(fā)布