金屬膜電阻溫度系數(shù)隨膜厚而變化，薄的膜為負值，厚的膜為正值，更厚的膜與塊狀材料相似，但并不完全相同。一般情況下，薄膜厚度增加到數(shù)十納米時，電阻溫度系數(shù)從負值轉(zhuǎn)為正值。

    此外，蒸發(fā)速率也影響金屬薄膜的電阻溫度系數(shù)。低蒸發(fā)速率制備的膜層疏松，電子越過其勢壘而產(chǎn)生電導的能力弱，再加上氧化和吸附作用，所以電阻值較高，電阻溫度系數(shù)偏小，甚至為負值，隨著蒸發(fā)率的增大，電阻溫度系數(shù)由小變大，由負變正。這是由于低蒸發(fā)率制備的薄膜由于氧化而具備半導體性質(zhì)，電阻溫度系數(shù)出現(xiàn)負值。高蒸發(fā)率制備的薄膜趨向于金屬特性，電阻溫度系數(shù)為正值。

    由于薄膜的結構隨溫度進行不可逆的變化，因此薄膜的電阻、電阻溫度系數(shù)也都隨蒸鍍時鍍層溫度發(fā)生變化，越薄的膜，這種變化越劇烈。這可以認為近似島狀或管狀結構膜的粒子在基板上再蒸發(fā)、再分布以及晶格散射、雜質(zhì)散射、晶格缺陷散射、氧化引起的化學變化的緣故。

——本文由蒸發(fā)鍍膜設備廠家廣東振華發(fā)布