②離子束輔助沉積可改善膜的機械性能、延長疲勞壽命，非常適合制備氧化物、碳化物、立方BN、TiB2，以及類金剛石涂層等。例如在1Cr18Ni9Ti耐熱鋼上采用離子束輔助沉積技術(shù)生長 200nm的Si3N4薄膜時，不僅可以抑制材料表面疲勞裂紋的萌生，而且可以明顯地降低疲勞裂紋的擴散速率，對延長其壽命有著良好的作用。

    ③離子束輔助沉積可改變膜的應(yīng)力性質(zhì)及其結(jié)晶結(jié)構(gòu)的變化。例如，制備Cr膜時用11.5keV的Xe+或Ar+轟擊基體表面時，發(fā)現(xiàn)調(diào)節(jié)基體的溫度、轟擊離子的能量、離子與原子的到達比等參數(shù)，可使應(yīng)力從拉伸應(yīng)力改變?yōu)閴嚎s應(yīng)力，對膜的晶體結(jié)構(gòu)也會產(chǎn)生變化。在一定離子與原子到達比例之下，離子束輔助沉積比熱蒸鍍沉積的膜層具有更好的擇優(yōu)取向性。

    ④)離子束輔助沉積可增強膜的耐腐蝕能力和抗氧化能力。由于離子束輔助沉積的膜層致密，膜基界面結(jié)構(gòu)的改善或者由于形成非晶態(tài)致使顆粒間的晶界得到消失，從而有利于增強材料的耐腐蝕性能和抵制高溫的氧化作用。

    ⑤離子束輔助沉積可以改變膜的電磁學(xué)特性和提高光學(xué)薄膜的性能。

    ⑥離子輔助沉積由于可以精確和獨立的調(diào)節(jié)原子沉積和離子注入的相關(guān)參數(shù)，并且可以在較低的轟擊能量下連續(xù)生成幾微米且組分相一致的涂層，因此，在室溫下生長各種薄膜，可避免在高溫下處理時對材料或精密零件的不利影響。

——本文由光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家廣東振華發(fā)布