高能態(tài)的等離子體對高分子材料進(jìn)行轟擊、照射，可以打斷高分子材料的分子鏈、形成活性基團(tuán)、增加表面能、產(chǎn)生刻蝕等。等離子體表面處理對本體材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)、性能不產(chǎn)生影響，只是表面性能發(fā)生很大改變。

  為了不損壞材料本身的特性，等離子體表面改性處理通常不使用較大功率密度的等離子體。這種處理和其他等離子體處理的區(qū)別在于:

1)不向處理表面注入離子或原子 (如離子注入)。

2)不去除較大塊的材料(如濺射或刻蝕)。

3)不向表面增加超過幾個單(原子)層的物質(zhì) (例如沉積)。

  總之，等離子體表面處理涉及的只是最外幾個原子層。

  等離子體表面改性的工藝參數(shù)主要有氣體壓力、電場頻率、放電功率、作用時間等，工藝參數(shù)易于調(diào)節(jié)。等離子體改性過程中，許多活性粒子易于和所接觸的處理表面發(fā)生反應(yīng)，可以用來對材料表面進(jìn)行處理。和傳統(tǒng)方法相比，等離子體表面改性具有工藝方法簡單、操作簡便、成本低、無污染、無廢棄物、生產(chǎn)安全、效率高等優(yōu)點。