1.空心陰極離子鍍膜機(jī)和熱絲弧離子鍍膜機(jī)

    空心陰極槍、熱絲弧槍安裝在鍍膜室頂端，底端安裝陽極，鍍膜室周邊的上下安裝兩個電磁線圈?；」怆娮恿鲝纳舷蛳伦雎菪€運動。

2.永磁體加電磁控的小圓形陰極電弧源

    電磁線圈加速弧斑在靶的周向做旋轉(zhuǎn)運動，減少了弧斑在靶面的停留時間，減小了熔池面積，細(xì)化了膜層組織。

3.雙電磁控陰極電弧源

    陰極電弧源配置兩個電磁線圈，提高了電子流的旋轉(zhuǎn)速度，細(xì)化了膜層組織。

4.磁控電子回旋 PECVD

    在直流 PECVD鍍膜室外安裝上下兩個電磁線圈，使電子做旋轉(zhuǎn)運動，增加了電子與氣體的碰撞概率，提高了膜層粒子的離化率。

5.ECR 微波 PECVD

    在鍍膜室外安裝上下兩個電磁線圈，可提高離化率。

6.弧光放電PECVD

    在弧光放電 PECVD 設(shè)備鍍膜室周邊的上下安裝兩個電磁線圈，沉積金剛石膜時，同軸電磁場可將弧光電子流旋轉(zhuǎn)起來激勵碳?xì)浠衔锏臍怏w電離。

——本文由離子鍍膜機(jī)廠家廣東振華發(fā)布