真空陰極電弧離子鍍簡稱真空電弧鍍。如采用兩個(gè)或兩個(gè)以上真空電弧蒸發(fā)源(簡稱電弧源) 時(shí)，則稱為多弧離子鍍或多弧鍍。它是把真空弧光放電用于蒸發(fā)源的一種真空離子鍍膜技術(shù)，它與空心陰極放電的熱電子電弧不同，它的電弧形式是在冷陰極表面上形成陰極電弧斑點(diǎn)。

真空陰極電弧離子鍍的特點(diǎn)是:

(1) 蒸發(fā)源為固體陰極靶，從陰極靶源直接產(chǎn)生等離子體，不用熔池，電弧靶源可任意方位、多源布置以保證鍍膜均勻。

(2) 設(shè)備結(jié)構(gòu)較簡單，不需要工作氣體，也不需要輔助的離子化手段，電弧靶源既是陰極材料的蒸發(fā)源，又是離子源;而在進(jìn)行反應(yīng)性沉積時(shí)僅有反應(yīng)氣體存在，氣氛的控制采用簡單的全壓強(qiáng)控制。

(3) 離化率高，一般可達(dá) 60%~80%，沉積速率高。

(4) 入射離子能量高，沉積膜的膜/基結(jié)合力較好。

(5) 采用低電壓電源工作，操作比較安全。

(6) 可以沉積金屬膜、合金膜，也可以反應(yīng)合成各種化合物膜 (氨化物、碳化物、氧化物)，甚至可以合成 DLC膜、C-N 膜等。其缺點(diǎn)是:沉積時(shí)從靶表面飛濺出微細(xì)液滴，冷凝在所鍍膜層中使膜層的粗糙度增加。目前，已經(jīng)研究了許多有效的方法，以減少和消除這些微滴。

真空電弧離子鍍技術(shù)已廣泛用于涂鍍刀具、模具的超硬保護(hù)層，膜系包括 TiN、ZrN、HfN、TiAIN、TiC、TiNC、CrN、Al2O3、DLC 等，鍍層產(chǎn)品包括刀具、工模具等在仿金和彩色裝飾保護(hù)膜層方面，膜系包括 TiN、ZrN、TiAIN、TiAINC、TC、TiNC、DLC、Ti-O-N、T-O-N-C、ZrCN、Zr-O-N等，彩色膜系有槍黑、烏黑、紫、棕、藍(lán)、綠灰等。

    多弧離子鍍的應(yīng)用面廣，實(shí)用性強(qiáng)，特別在刀具、工模具和不銹鋼板等材料的表面上鍍覆裝飾及耐磨硬質(zhì)膜層等方面發(fā)展最為迅速。