1.離子束能量范圍分類(lèi)

離子束的能量是在高壓電場(chǎng)加速下獲得的。其能量 (E)范圍如下:

    1)高能離子束能量，E=20~100keV，用于離子束注人和離子束混合。

    2)中能離子束能量，E=500~1000eV，用于離子束射鍍膜、離子束刻蝕鍍膜前預(yù)轟擊清洗。

    3)低能離子束能量，E≤500eV，鍍膜時(shí)進(jìn)行輔助沉積。

    2.離子束對(duì)材料表面的作用

不同能量的離子束對(duì)材料表面產(chǎn)生的作用不同。

    (1)離子束注入 直接用高能的離子束注人材料表面，可以獲得用一般冶金方法很難獲得的平衡及非平衡合金、過(guò)飽和固溶體、亞穩(wěn)態(tài)合金及化合物、非晶態(tài)表面等不同組織結(jié)構(gòu)的新材料;還可以進(jìn)行離子束反沖注入和離子束混合。

    (2)離子束濺射 用高能離子束濺射靶材，獲得高純度的膜層。

    (3)離子束刻蝕 用高能離子把基上多余的材料射下來(lái)，從而獲所需材料組成的圖形，這是半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)刻蝕電路板的關(guān)鍵技術(shù)。

    (4)離子增強(qiáng)輔助沉積 在鍍膜的過(guò)中，同時(shí)用高能離子轟擊工件，即一邊鍍膜，一邊轟擊。離子束向沉積粒子提供能量，進(jìn)行離子束輔助增強(qiáng)沉構(gòu)可以獲得符合化學(xué)計(jì)量比的化合物涂層，并改善膜層組織。

在離子束和材料表面相互作用過(guò)程中，這幾種現(xiàn)象都會(huì)存在，只是在不同的能量范圍內(nèi)其中某一種現(xiàn)象會(huì)占主導(dǎo)地位。

——本文由濺射鍍膜設(shè)備廠家廣東振華發(fā)布