·磁控+蒸發(fā)+CVD技術
·多功能復合型鍍膜設備
該設備為立式雙開門結構，是一款集直流磁控濺射鍍膜技術、電阻蒸發(fā)鍍膜技術、CVD鍍膜技術及中頻離子清洗系統(tǒng)相結合的復合型設備，適應客戶復雜的產(chǎn)品工藝切換；真空室內可一次性完成金屬膜及保護膜制程，防止二次工序污染。
設備結構緊湊，占地面積小；雙開門結構，無待機時間，生產(chǎn)效率高；膜層均勻性好，光潔度高。設備可適用于車燈、車標、車內飾件等不同產(chǎn)品，可鍍制金屬膜層，如Ti、Cu 、Al、Cr、Ni、SUS、Sn、In等材料。
ZCM1417
φ1400*H1700(mm)
設備可根據(jù)客戶要求定制
