該設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了高性能膜層制備的需求。

實驗型鍍膜設(shè)備主要用于各大院校及科研單位，可滿足多種實驗要求；預(yù)留多種結(jié)構(gòu)靶位，靈活配置，以滿足不同領(lǐng)域的科研開發(fā)。可選配磁控濺射系統(tǒng)、陰極電弧系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、電阻蒸發(fā)系統(tǒng)、CVD、PECVD、離子源、偏壓系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、三維夾具等，客戶可根據(jù)自身不同需求選配。

設(shè)備具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護等特點。

設(shè)備可適用于不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質(zhì)；可制備單質(zhì)金屬層如鈦、鉻、銀、銅或金屬化合物膜層如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等；可實現(xiàn)深黑色、爐內(nèi)金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍、亮銀色等顏色。