該設備集磁控濺射與電阻式蒸發(fā)鍍膜技術為一體，為滿足多種不同基材鍍膜提供了解決方案。

實驗型鍍膜設備主要用于各大院校及科研單位，可滿足多種實驗要求；預留多種結構靶位，靈活配置，以滿足不同領域的科研開發(fā)?？蛇x配磁控濺射系統(tǒng)、陰極電弧系統(tǒng)、電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、電阻蒸發(fā)系統(tǒng)、CVD、PECVD、離子源、偏壓系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、三維夾具等，客戶可根據(jù)自身不同需求選配。

設備具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護等特點。

設備可適用于塑膠、不銹鋼、水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質；可制備單質金屬層如鈦、鉻、銀、銅、鋁或金屬化合物膜層如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等。