設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，根據(jù)不同產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置。設(shè)備配置了12對(duì)中頻靶位，可鍍制出多種性能優(yōu)異的復(fù)合膜層，且利于快速沉積更厚更純凈的膜層。設(shè)備所鍍制的膜層具有附著力強(qiáng)、致密性高的優(yōu)點(diǎn)，對(duì)提高顏色一致性及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨能力及產(chǎn)品表面硬度，滿足了高性能膜層制備的需求。

設(shè)備可適用于不銹鋼、水鍍五金件等材質(zhì)產(chǎn)品，可制備TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC等金屬化合物膜層；可實(shí)現(xiàn)深黑色、爐內(nèi)金、玫瑰金、仿金、鋯金、寶石藍(lán)、亮銀色等顏色。該系列設(shè)備已廣泛應(yīng)用于手機(jī)卡托、手機(jī)中框、手機(jī)logo、3C產(chǎn)品五金件、高檔鐘表等。