在現(xiàn)代光學(xué)應(yīng)用中，多層高反射膜已經(jīng)成為提高光學(xué)系統(tǒng)性能的核心技術(shù)之一。無論是在激光系統(tǒng)、光學(xué)儀器，還是在太陽能設(shè)備和激光雷達(dá)中，多層高反射膜都發(fā)揮著不可替代的作用。其卓越的光學(xué)性能不僅能有效提高光的反射率，還能在各種高精度應(yīng)用中提供穩(wěn)定的光學(xué)性能。

在現(xiàn)代光學(xué)應(yīng)用中，濾光片作為重要的光學(xué)元件廣泛應(yīng)用于相機(jī)、顯微鏡、激光系統(tǒng)等設(shè)備中。薄膜型吸收濾光片，作為其中的一種核心技術(shù)，正逐漸成為光學(xué)系統(tǒng)中不可或缺的關(guān)鍵組件。

磁控濺射是一種先進(jìn)的物理鍍膜技術(shù),它利用磁場來控制電子的運(yùn)動軌跡,從而提高電子的電離概率和利用電子能量。這種技術(shù)使得靶材的濺射更有效地利用正離子對靶材的轟擊,同時(shí)由于受到正交電磁場束縛的電子只能在能量耗盡時(shí)才能落到基片上,因此磁控濺射具有“高速”“低溫”兩大特點(diǎn)。與直流二極濺射相比,磁控濺射只增加了正交電磁場對電子的束縛效應(yīng)。而正交電磁場的建立、靶面磁場B值的大小及其分布,特別是平行于靶表面的磁場分量B,是磁控濺射中一個(gè)非常重要的參數(shù)。在實(shí)際應(yīng)用中,這些參數(shù)需要根據(jù)具體的設(shè)備和工藝需求進(jìn)行精確控制和調(diào)整,以保證鍍膜的質(zhì)量和效果。 由于束縛效應(yīng)的作用,磁控濺射的放電電壓和氣壓都遠(yuǎn)低于直流二級濺射。當(dāng)具有一定能量的離子入射到靶材表面時(shí),入射離子與靶材中的原子和電子相互作用,可以引起靶材表面的粒子發(fā)射,包括濺射原子或分子、二次電子發(fā)射、正負(fù)離子發(fā)射、吸附雜質(zhì)解吸和分解、光子輻射等,并在靶材表面產(chǎn)生一系列的物理化學(xué)效應(yīng),包括表面加熱、表面清洗、表面刻蝕、表面物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)或分解等。此外,一部分人射離子進(jìn)入靶材的表面層,成為注入離子,在表面層中產(chǎn)生一系列的現(xiàn)象,包括級聯(lián)碰撞、晶格損傷及晶態(tài)與無定型態(tài)的相互轉(zhuǎn)化、亞穩(wěn)態(tài)的形成和退火、由表面物質(zhì)傳輸而引起的表面形貌變化、組分及組織結(jié)構(gòu)變化等。

與傳統(tǒng)的真空蒸發(fā)鍍膜相比,濺射鍍膜有以下特點(diǎn)。 (1)濺射鍍膜是物理鍍膜方法,其基本原理是利用輝光放電產(chǎn)生的高速離子轟擊靶材表面,使靶材中的原子或分子逸出并沉積到被鍍工件的表面,形成薄膜。而真空蒸發(fā)鍍膜則利用電阻加熱法將靶材加熱至熔化,然后蒸發(fā)并沉積到被鍍工件的表面。 (2)濺射鍍膜的沉積粒子大多呈原子狀態(tài),被稱為濺射原子。而真空蒸發(fā)鍍膜則是通過加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,然后沉降到基片表面形成薄膜。 (3)濺射鍍膜的粒子帶一定的動能,因此它們可以沿一定方向射向基體表面,并在基體表面形成鍍層。而真空蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)粒子一般沒有這個(gè)特性。