實驗型卷繞鍍膜設備采用磁控濺射及陰極電弧相結合的鍍膜技術，既滿足了對膜層致密性要求，又滿足了高離化率的要求；立式結構，工件卷繞系統(tǒng)垂直安裝在真空室內；多室門設計，陰極安裝在側門上，可裝六套陰極源或離子源，開門即可對靶進行維護或更換；設備可一次性進行工件表面處理及鍍制多層膜，實現(xiàn)多層膜沉積。適用多種金屬或化合物鍍膜材料。
設備具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護的特點，尤其適用于實驗室高校使用，客戶可根據(jù)自身不同需求選配。
