本系列設(shè)備是利用磁控靶將鍍膜材料轉(zhuǎn)化為納米尺度的粒子，沉積在基片表面形成薄膜。成卷基膜放在真空內(nèi)，通過(guò)電驅(qū)動(dòng)卷繞機(jī)構(gòu)一頭收一頭放，持續(xù)通過(guò)靶區(qū)，接收靶料粒子，形成致密的膜層。

特點(diǎn)：

1.低溫成膜。溫度對(duì)基材影響小，不會(huì)產(chǎn)生變形；適用于PET、PI等基材卷材薄膜；

2.膜厚可設(shè)計(jì)。通過(guò)工藝調(diào)整，可自行設(shè)計(jì)沉積較薄或較厚的鍍膜層；

3.多個(gè)靶位設(shè)計(jì)，工藝靈活。整機(jī)可裝八支靶，既可用單質(zhì)金屬靶材也可用化合物、氧化物靶材，可制備單一結(jié)構(gòu)的單層膜，也可制備復(fù)合結(jié)構(gòu)的多層膜，工藝非常靈活。

設(shè)備可制備電磁屏蔽膜、柔性線路板鍍膜、各種介質(zhì)膜、多層結(jié)構(gòu)AR減反膜、HR高反膜、彩膜等，設(shè)備適用范圍非常廣范，一次走膜即可完成單層膜沉積。

設(shè)備可采用單質(zhì)金屬靶材如Al、Cr、Cu、Fe、Ni、SUS、TiAl等，或化合物靶材如SiO2、Si3N4、Al2O3、SnO2、ZnO、Ta2O5、ITO、AZO等。

設(shè)備尺寸小，結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，能耗低，調(diào)整靈活，非常適用工藝、產(chǎn)品研發(fā)或小批量量產(chǎn)的需求。